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台式紧凑型等离子清洗机、小型等离子清洗机、微创伤纳米级等离子清洗机、

GPC-102 A是一款台式紧凑型等离子清洗机,具有体积仅为台式烤箱大小、非破坏性的纳米级清洗的特点,是一款特别适合实验室、超净间及研发机构的理想等离子清洗设备。等离子清洗机采用工艺气体如大气、氩气、氮气、氧气或氦气等作为清洗气体介质,有效避免了因液体清洗剂对

产品货号:GPC-102 产地:美国 价格:询价 点击数:1747 商家询价

台式等离子清洗机

台式等离子清洗机,低频等离子清洗机,小型等离子清洗机,台式(小型)等离子清洗机台式等离子清洗机 / 低成本等离子清洗机 P-2是一款价格非常低的台式等离子清洗机.该台式等离子清洗系统用于小型生产企业、研发实验室、检测中心、大学实验室;该台式等离子清洗机系统是用

产品货号:P-2 产地:进口 价格:询价 点击数:1667 商家询价

圆筒型台式反应离子刻蚀(RIE)系统(蚀刻、等离子混合清洗、等离子清除浮渣、刻胶、去胶 、表面处理 、Etching、故障分析应用 、材料改性 )

台式反应离子刻蚀系统,台式反应离子刻蚀(RIE)系统,圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统VHF系列圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统定义了一个新的台式反应离子刻蚀(RIE)系统圆筒型等离子处理方式。

产品货号:VHF圆筒型台式反应离子刻蚀(RIE)系统(蚀刻、等离子混合 产地:原装进口VHF系列等离子处理系统 价格:询价 点击数:2128 商家询价

反应离子刻蚀/沉积等离子处理系统(反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)系统、 薄膜沉积、刻蚀、表面处理、材料改性、金属刻蚀、粘合促进

BM8-II是一款定义反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)等离子处理新概念的等离子处理系统。BM8-II反应离子刻蚀(RIE)/沉积(PEVCD)等离子处理系统基于模块化设计制造,采用一款通用的真空处理舱及机柜。

产品货号:BM8-II 反应离子刻蚀/沉积等离子处理系统(反应离子刻 产地:原装进口 反应离子刻蚀/沉积等离子处理 价格:询价 点击数:2171 商家询价